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半導體和光伏矽片選擇(zé)哪種矽晶片切割(gē)液合適
返回列表 來源: 發布日期: 2024.12.04

矽(guī)晶片切割液,又稱為矽(guī)片切削液,是一種專用於半導體製造過程中(zhōng)切割單晶矽或多晶矽晶片的(de)輔助化學品。其主(zhǔ)要作(zuò)用是冷卻、潤(rùn)滑和清潔切割過程,從而提高切割效率、減少晶片損傷,並延長切割工具的(de)使用壽命(mìng)。切割液在半導體行業和太陽能(néng)光伏行業(yè)的矽(guī)片製造中起著至(zhì)關重要的(de)作用。

矽晶片切割(gē)液的應用

矽晶片切割液的組成與特性

切割液一般由基(jī)礎(chǔ)液體和功能(néng)添加劑兩部分組成。基礎(chǔ)液體通常是水或油(yóu),而功能添加劑包括潤(rùn)滑劑、表麵活性劑、防腐劑、抗(kàng)氧化劑等。這些成分(fèn)共同作用,使切割液具備以(yǐ)下特性:

較(jiào)好的潤滑性(xìng)能:有效降低切割過程中的摩擦,減少工具磨損和晶片的機械損傷。

高效冷卻性:及(jí)時帶走切割過(guò)程(chéng)中產生(shēng)的熱量,防止矽片因過熱而變形或產生裂紋。

很好的清潔性:迅速清除切(qiē)割產生的矽屑,保持切(qiē)割區域(yù)的清(qīng)潔(jié),從而提高切割質量(liàng)。

矽片切(qiē)割通常采用金剛線鋸切技術。切割液在這一過程中起(qǐ)到了潤滑線鋸、清除碎屑(xiè)和冷卻工件的關鍵作用。具(jù)體來說:

潤滑:減少線鋸與矽晶體的摩擦力,確保切割順暢,降低設備功耗。

冷卻:吸收和導(dǎo)出切割中產生的高溫,避免(miǎn)矽片局部熱(rè)應力導致的破損。

清潔:將切割產生的(de)微小矽屑(xiè)迅速衝刷出(chū)切割區,防止它們影響切割線的效率或造成(chéng)晶片(piàn)表麵缺陷。

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