pvd鍍膜技術是在真空條件下，采用低電壓的電弧放電技術，通過氣體放電蒸發靶材，將（jiāng）物（wù）質沉積在基材上（shàng），提高產品的外觀效果和裝飾性能，從而得到不同的（de）顏色外觀。由於使用pvd真空鍍後，鍍膜層的附著力增強，在產生（shēng）不良品後，需要PVD退鍍液將PVD塗層從被鍍基體上除去。

PVD鍍膜膜層的厚度為微米級，厚度較薄（báo），一般為0.3μm ～ 5μm，其中裝飾鍍膜（mó）膜層的厚（hòu）度更小 ，因（yīn）此對退（tuì）鍍技術以及設備提出了苛刻的要（yào）求：既要退（tuì）除鍍層，又要不傷害到工件。隨著電子零（líng）配（pèi）件集成化的要求（qiú），很多（duō）產品是不鏽鋼、光學玻璃、陶瓷藍寶石等，這些工（gōng）件的PVD膜層（céng）的退除相對單一底（dǐ）材（cái），其退除難度更大（dà）。

PVD退鍍液在退鍍（dù）作業當中與膜層的反應時間（jiān）十分短,在進行膜層剝（bāo）離過程當中速度很快，能夠快速的去除物體表（biǎo）麵的鍍層。退（tuì）鍍過程（chéng）中基本不會產生殘留，對（duì）退（tuì）鍍基材也（yě）不（bú）會有損傷。

PVD退鍍液是一種堿性的（de）PVD膜層剝離（lí）劑，可（kě）快速（sù）脫除光學玻璃（lí）、陶瓷、藍寶石以及不鏽鋼表麵上的金屬膜，氧化物膜，氮化物膜和碳化（huà）物膜等真空鍍層，水（shuǐ）基環保，退鍍效果高，不傷基材，適用於鍍膜之不良品的返修工序。

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