拋光液（CMP）是近年來處於前端的研（yán）磨拋光方式，大致有二氧化矽拋光液，氧化鈰拋光液，氧化鋁（lǚ）拋光液等（děng）等常見材料，當金屬材料拋光至鏡麵效果（guǒ）時，拋光液在物理和化學同（tóng）時作用下，在基材（cái）上麵形（xíng）成頑固（gù）的固（gù）體殘（cán）留物，尤（yóu）其是使用納米二氧化矽（矽溶膠）拋光過的鋁合金高光鏡麵，在拋光液幹涸在基材表麵，已經是業界頭等清洗難題（tí）。選擇一款合適的拋（pāo）光液清洗劑，用水性分散原（yuán）理，快速解決行業拋光液殘留（liú）的棘手問題。

目前，很（hěn）多（duō）研磨拋光加工企業，使用一些不佳的清洗劑，要不是清洗不了（le）拋光液殘留物，要不就是能清洗幹（gàn）淨，但金（jīn）屬（鋁合（hé）金）高（gāo）光鏡麵效果被破壞，在（zài）沒有更合適（shì）的辦法下，停留（liú）在手工清洗高光鏡麵加工（gōng）件，效率低下，對員工身體，環境都不利，無法實現現代化生產要求。

拋（pāo）光液清洗劑主（zhǔ）要是針對各種切削液、研磨粉(液)、拋光粉/液(SiO2、氧化鈰、氧化鋁)清洗（xǐ），對頑固黴（méi）點（diǎn）、髒汙、手指印等有很強（qiáng）的清洗效果，對於金屬和陶瓷研磨（mó）、拋光後的清洗效果均為優異，也適（shì）用於玻璃材質研磨與拋光後（hòu）的（de）表麵清洗，通過自動化超聲波設備清洗後，在不腐蝕材料的（de）基礎上，高效率的批量化清洗鏡麵材料上的殘留拋光液。

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